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Ab initio reappraisal of the dislocation-associated stacking faults in hcp titanium: a new dissociation mechanism
Authors:L. Liang
Affiliation:1. LSI, école Polytechnique, CNRS, CEA, Université Paris Saclay, Palaiseau cedex, France.;2. Institut du Développement des Ressources Informatiques et Scientifiques, CNRS, Université de Paris Sud, Orsay, France.
Abstract:
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